光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统

PR-PD2

概要

PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。

0.35μm的检测灵敏度，90%的检测率。

操作灵活的菜单便于使用。

最多可直接从多级分类器内的光掩模盒中装载10片光掩模。

可直接观察玻璃(Glass)面和图案(Pattern)面。

便利的数据管理便于制做报告。

新信号处理方式有利于减少检测错误。